主要功能
表面形貌观察:能够放大样品表面细节,适合分析颗粒形状、微裂纹等微观结构。 成分分析:配备能谱仪(EDS),可以快速检测样品中的元素组成及分布。
主要技术指标
1.1电子光学系统 1.1.1 分辨率:二次电子(SE)像 3.1.1.1高真空模式:15kV时≤0.5nm: 1kV时≤0.8nm, 1.1.1.2长工作距离分辨:工作距离10 mm下,1kV时≤1.0 nm; 1.1.1.3大束流下分辨:6.4nA,工作距离10mm下,15kV时≤1.9 nm; 1.1.2 放大倍率范围:20~2000000倍或最小值≤20倍,最大值≥2000 000倍(底片放大,非显示放大,根据加速电压和工作距离的改变,放大倍数 自动校准) 1.1.3 着陆电压:20V至30kV或最小值≤20V,最大值≥30kV 1.1.4 电子枪:高稳定度肖特基热场发射电子枪,自动烘烤、自动启动 1.1.5 电子束流:1pA~50nA或最小值≤1pA,最大值≥50 nA,连续 可